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滑动摩擦力、动摩擦因数
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半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN．在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于平衡状态，如图所示是这个装置的截面图．现
网友投稿 2022-10-21 00:00:00 零零社区
◎ 题目
半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN．在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于平衡状态，如图所示是这个装置的截面图．现使MN保持竖直并且缓慢地向右平移，在Q滑落到地面之前，发现P始终保持静止．则在此过程中，下列说法中正确的是（ ）
A．MN对Q的弹力逐渐减小
B．P对Q的弹力逐渐增大
C．地面对P的摩擦力逐渐增大
D．Q所受的合力逐渐增大
◎ 答案
A、B、对圆柱体Q受力分析，受到重力、杆MN的支持力和半球P对Q的支持力，如图
重力的大小和方向都不变，杆MN的支持力方向不变、大小变，半球P对Q的支持力方向和大小都变，然后根据平衡条件，得到
N
1
=mgtanθ
N
2
=
mg
cosθ
由于θ不断增大，故N
1
不断增大，N
2
也不断增大；
故A错误，B正确；
C、对PQ整体受力分析，受到总重力、MN杆的支持力N
1
，地面的支持力N
3
，地面的静摩擦力f，如图
根据共点力平衡条件，有
f=N
1
=mgtanθ
由于θ不断增大，故f不断增大，故C正确；
D、物体Q一直保持静止，故D错误；
故选BC．
◎ 解析
“略”
◎ 知识点
专家分析，试题“半圆柱体P放在粗糙的水平地面上，其右端有一固定放置的竖直挡板MN．在半圆柱体P和MN之间放有一个光滑均匀的小圆柱体Q，整个装置处于平衡状态，如图所示是这个装置的截面图．现…”主要考查了你对 【滑动摩擦力、动摩擦因数】，【力的合成】，【共点力的平衡】 等知识点的理解和应用能力。关于这些知识点的“档案”，你可以点击相应的链接进行查看和学习。
http://www.00-edu.com/html/202210/310037.html
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