1.3.2 I-V Characteristics I-V特性 ………………………………………………………………………24
1.4 MOS Transistors MOS晶体管 …………………………………………………………25
1.4.1 Threshold Voltage 阈值电压 ………………………………………………………………………27
1.4.2 I-V Characteristics I-V特性 ………………………………………………………………………29
1.5 JFET Transistors JFET晶体管 …………………………………………………………32
1.6 Summary 小结 …………………………………………………………………………34
1.7 Exercises 习题 …………………………………………………………………………35
Chapter 2 Semiconductor Fabrication 半导体制造 …………………………………… 37
2.1 Silicon Manufacture 硅制造 ……………………………………………………………37
2.1.1 Crystal Growth 晶体生长 …………………………………………………………………………38
2.1.2 Wafer Manufacturing 晶圆制造 …………………………………………………………………39
2.1.3 The Crystal Structure of Silicon 硅的晶体结构 …………………………………………………39
2.2 Photolithography 光刻技术 ……………………………………………………………41
2.2.1 Photoresists 光刻胶 ………………………………………………………………………………41
2.2.2 Photomasks and Reticles 光掩模和掩模版 ………………………………………………………42
2.2.3 Patterning 光刻 ……………………………………………………………………………………43
2.3 Oxide Growth and Removal 氧化物生长和去除 ………………………………………43
2.3.1 Oxide Growth and Deposition 氧化物生长和淀积 ………………………………………………44
2.3.2 Oxide Removal 氧化物去除 ………………………………………………………………………45
2.3.3 Other Effects of Oxide Growth and Removal 氧化物生长和去除的其他效应 …………………47
2.3.4 Local Oxidation of Silicon (LOCOS) 硅的局部氧化 ……………………………………………49
2.4 Diffusion and Ion Implantation 扩散和离子注入 ………………………………………50
2.4.1 Diffusion 扩散 ……………………………………………………………………………………51

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