4.5  熔体定向凝固法
    4.5.1  定向凝固的热流及温度分布
    4.5.2  热交换法(}tem)
    4.5.3  梯度凝固法(gsm)
    4.5.4  垂直梯度凝固法(vgf)
    4.5.5  泡生法(kyropoulos法)
    4.5.6  水平法生长蓝宝石
  4.6  导模法
    4.6.1  导模法生长原理
    4.6.2  导模法工艺
  4.7  直拉生长法((~'zochralski法)
    4.7.1  熔体生长的基本原理
    4.7.2  锗和硅单晶生长
    4.7.3  ⅲ一v族化合物半导体gaas和gap
  参考文献
第5章  化学气相沉积制备红外光学材料
  5.1  引言
  5.2  化学气相沉积基础
    5.2.1  概述
    5.2.2  温度的影响
    5.2.3  反应剂分子向衬底表面的传输
    5.2.4  压力的影响
    5.2.5  反应剂气体流动状态
  5.3  cvdzns和cvdznse
  5.4  cvdb—sic
  5.5  cvdgap
  5.6  cvdsi2n4
  参考文献
第6章  金刚石光学材料
  6.1  概述
  6.2  cvd金刚石性质
    6.2.1  cvd金刚石的光学性能
    6.2.2  cvd金刚石的热学性质
    6.2.3  cvd金刚石的力学性质
    6.2.4  金刚石的氧化和保护
  6.3  cvd金刚石生长机理
    6.3.1  表面激活
    6.3.2  生长机制
    6.3.3  缺陷的产生
    6.3.4  原子h的输送
  6.4  cvd金刚石生长工艺
    6.4.1  m’wcvd金刚石合成
    6.4.2  直流电弧放电等离子体合成金刚石
    6.4.3  燃烧火焰喷射合成金刚石
  6.5  金刚石涂层
    6.5.1  锗上的金刚石涂层
    6.5.2  zns上的金刚石膜.
  6.6  cvd金刚石表面加工
    6.6.1  激光束平滑技术
    6.6.2  热金属研磨金刚石表面的热化学抛光技术
    6.6.3  等离子体腐蚀抛光
  参考文献
第7章  增透膜和保护膜
  7.1引言
  7.2  红外光学材料的宽带增透膜
  7.3  薄膜制备方法
  7.4  表面凸起结构的减反射
  7.5  光学元件表面保护
  7.6  类金刚石碳(dlc)膜
  7.7  gec膜
    7.7.1  gec膜的制备
    7.7.2  gec膜的光学性质
    7.7.3  gec膜的力学性能
  7.8  bp和gap膜.
    7.8.1  bp膜的制备
    7.8.2  bp膜的结构
    7.8.3  bp膜的光学性质
    7.8.4  bp膜的力学性质
  7.9  雨蚀保护
  7.10  沙蚀保护
  7.11  其他硬质保护膜
  7.12  透明导电膜
    7.12.1  金属网格滤波器
    7.12.2  导电衬底和导电膜
    7.12.3  导电网格设计
  参考文献

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