硅基高K氧化物锶硅界面缓冲层的研究
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硅基高K氧化物锶硅界面缓冲层的研究作者：杜文汉, 著 开 本：其他 书号ISBN：9787568410304 定价：35.0 出版时间：2016-12-01 出版社：江苏大学出版社 |
硅基高K氧化物锶硅界面缓冲层的研究 内容简介
借助STM这个可以提供原子尺度结构和电子态的有 力工具，《硅基高k氧化物锶硅界面缓冲层的研究》对Sr／Si体系进行了深入的研究，主要 分为以下3个部分：（1）**部分：Si（100）衬底上的 Sr／Si再构；（2）第二部分：Si（111）衬底上的Sr／Si 再构；（3）第三部分：超薄SrTiO3膜的高温晶化。
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