先进纳米薄膜材料-制备方法及应用

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先进纳米薄膜材料-制备方法及应用

先进纳米薄膜材料-制备方法及应用

作者:林媛

开 本:32开

书号ISBN:9787122291585

定价:298.0

出版时间:2017-03-01

出版社:化学工业出版社

先进纳米薄膜材料-制备方法及应用 本书特色

本书总结了纳米薄膜材料的国内外研究*进展,既详细地介绍了纳米薄膜材料的制备方法,又介绍了它们在电子器件领域的应用。系统阐述了薄膜及纳米结构的一系列制备技术,不仅包括溶胶凝胶法、MOCVD、电子束沉积、磁控溅射等传统技术,还包括近年来新发展起来的高分子辅助沉积法、3D打印、液相-电子束诱导沉积等技术。此外,本书还对纳米薄膜及其它纳米结构的一些典型应用做了介绍,并给出实例,包括磁性薄膜的应用、氧化物薄膜在燃料电池领域的应用、相变材料在存储器领域的应用和柔性薄膜器件等。本书适合材料、微电子等相关专业的研究生、科技人员和教学人员使用。

先进纳米薄膜材料-制备方法及应用 内容简介

1. 纳米薄膜材料在国际上近10年来一直是科学研究的热门领域,本书覆盖各种纳米薄膜材料的制备技术,重点阐明生长机制以及生长条件与纳米薄膜材料性能之间的关联性,并介绍相关的制备技术在纳米薄膜材料和纳米器件中的应用实例。


2. 除了传统的制备技术如溶胶-凝胶法、电子束沉积等,还包含很多近10多年来新兴的纳米薄膜制备技术如高分子辅助沉积法、3D打印等国内外在该领域的新进展。


3. 本书注重基本概念和应用实例并重,充分考虑不同层次读者的需求。在每个章节先介绍一种制备技术或器件应用的基本概念和工作原理,这会有利于本科生之类初级程度的读者,之后会介绍具有一定深度的纳米薄膜结构形成机制及器件应用实例,这将吸引有一定科研经验的高级读者。


4. 本书会使读者在读了本书之后对本领域能具备一个比较广阔的视野,将从本书中学到物理知识应用到其他领域中去。

先进纳米薄膜材料-制备方法及应用 目录

List of Contributors XIII



1 Pulsed Laser Deposition for Complex Oxide Thin Film and Nanostructure 1

Chunrui Ma and Chonglin Chen

1.1 Introduction 1

1.2 Pulsed Laser Deposition System Setup 2

1.3 Advantages and Disadvantages of Pulsed Laser Deposition 3

1.4 TheThermodynamics and Kinetics of Pulsed Laser Deposition 3

1.4.1 Laser–Material Interactions 4

1.4.2 Dynamics of the Plasma 5

1.4.3 Nucleation and Growth of the Film on the Substrate Surface 5

1.5 Monitoring of Growth Kinetics 8

1.5.1 Introduction and RHEED Studies 8

1.5.2 Growth Kinetics Studies by Surface X-ray Diffraction 9

1.6 Fundamental Parameters in Thin Film Growth 10

1.6.1 Substrate Temperature 10

1.6.2 Background Gas Pressure 10

1.6.3 Laser Fluence and Ablation Area 11

1.6.4 Target–Substrate Distance 11

1.6.5 Post-Annealing 12

1.6.6 Lattice Misfit 12

1.7 Pulsed Laser Deposition for Complex Oxide Thin Film Growth 13

1.7.1 Pulsed Laser Deposition for SuperconductorThin Film 14

1.7.2 Pulsed Laser Deposition for Ferroelectric Thin Films 14

1.7.3 Pulsed Laser Deposition for Ferromagnetic Thin Film 15

1.7.4 Pulsed Laser Deposition for Multiferroics Thin Film 15

1.7.5 Interface Strain Engineering the Complex Oxide Thin Film 16

1.7.5.1 Thickness Effect 16

1.7.5.2 Substrate Effect 17

1.7.5.3 Post-Annealing 21

1.8 Pulsed Laser Deposition for Nanostructure Growth 23

1.8.1 Self-Assembled Nanoscale Structures 23

1.8.2 Geometrically Ordered Arrays 23

1.9 Variation of Pulsed Laser Deposition 24

1.10 Conclusion 24

References 25



2 Electron Beam Evaporation Deposition 33

ZhongpingWang and Zengming Zhang

2.1 Introduction 33

2.2 Electron Beam Evaporation System 35

2.2.1 Heating Principle and Characters of Electron Beams 35

2.2.1.1 Heating Principle of Electron Beams 35

2.2.1.2 Characters of Electron Beams 36

2.2.2 Equipments of Electron Beam Source 37

2.2.2.1 Filament and Electron Emission 37

2.2.2.2 Electron Beam Control 38

2.2.2.3 Power Supply, Crucibles, and Feed Systems 39

2.2.2.4 Source Materials 40

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