9.7.2  简单氧化物光催化剂的 c3n4表面杂化
  参考文献
第10章  光催化材料的理论计算研究方法
  10.1  半导体的能带理论
    10.1.1  半导体与带隙
    10.1.2  导带和价带电位估算
    10.1.3  载流子的有效质量
    10.1.4  缺陷浓度与缺陷形成能
  10.2  光催化理论计算的信息
    10.2.1  能带结构及态密度分布
    10.2.2  光学性质
    10.2.3  缺陷形成能与化学势
  10.3  理论计算方法
    10.3.1  基于密度泛函理论的**性原理概述
    10.3.2**性原理计算流程
    10.3.3  基于密度泛函理论计算软件包castep和siesta软件
  10.4  氧化物半导体光催化材料的能带计算
    10.4.1  d0氧化物
    10.4.2  d10氧化物
    10.4.3  其它氧化物
  10.5  二氧化钛点缺陷结构的理论研究
    10.5.1  几何结构
    10.5.2  本征缺陷能
  10.6  非金属单掺杂tio2的电子结构
    10.6.1  物理模型
    10.6.2  缺陷形成能
    10.6.3  电子结构
  10.7  非金属与过渡金属共掺杂tio2的电子结构
    10.7.1  物理模型
    10.7.2  共掺杂的束缚能
    10.7.3  共掺杂的电子结构
  10.8  共掺杂的协同效应研究
    10.8.1  物理模型
    10.8.2  共掺杂缺陷形成能
    10.8.3  电子结构
    10.8.4  光学性质
  参考文献
第11章  光催化材料的表征方法
  11.1  光催化材料的成分分析方法
    11.1.1  x射线荧光光谱法
    11.1.2  原子吸收光谱法
    11.1.3  等离子体质谱法
    11.1.4  电子探针分析法
  11.2  光催化材料的物相结构的表征
    11.2.1  x射线晶体衍射
    11.2.2  电子衍射分析
    11.2.3  拉曼光谱分析
  11.3  表面与价键分析
    11.3.1  红外光谱分析
    11.3.2  x射线光电子能谱
    11.3.3  俄歇电子能谱
  11.4  分散度及形貌分析
    11.4.1  扫描电镜
    11.4.2  透射电镜
    11.4.3  原子力显微镜
    11.4.4  粒度分析仪
  11.5  光吸收性能研究
  11.6  光催化材料的热分析方法
  11.7  比表面和孔分布研究
  参考文献
第12章  光催化性能评价研究方法
  12.1  光催化机理研究
    12.1.1  紫外　可见漫反射光谱法
    12.1.2  荧光光谱：缺陷结构与寿命
    12.1.3  表面光电压谱
    12.1.4  表面光电流
    12.1.5  交流阻抗谱
    12.1.6  平带电位
    12.1.7  自由基与空穴捕获研究
    12.1.8  时间分辨光电导谱（trpc）
  12.2  光催化反应过程中的产物分析
    12.2.1  高效液相色谱方法
    12.2.2  色谱/质谱联用技术
    12.2.3  离子色谱
    12.2.4  总有机碳分析
  12.3  光源与光催化反应器
    12.3.1  光源与光谱器件
    12.3.2  光催化反应器
  12.4  光催化材料性能评价
    12.4.1  液相光催化活性评价方法
    12.4.2  气相光催化活性评价方法
    12.4.3  光解水制氢性能评价
    12.4.4  光催化自清洁性能评价方法
    12.4.5  光催化抗菌性能测试
  参考文献
第13章  光催化材料的环境净化应用
  13.1  光催化对有毒有害物的分解反应
    13.1.1  挥发性有机化合物
    13.1.2  内分泌干扰物
    13.1.3  持久性有机污染物（pops）
  13.2  光催化在空气净化方面的应用
    13.2.1  甲醛净化
    13.2.2  甲苯净化
  13.3  光催化在水净化方面的应用
    13.3.1  表面活性剂
    13.3.2  染料废水
    13.3.3  农药废水
  13.4  光催化降解复合技术
    13.4.1  光催化降解净化
    13.4.2  光电协同催化降解净化
    13.4.3  臭氧协同光催化降解
    13.4.4  双氧水协同光催化降解

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