先进光学元件微纳制造与精密检测技术
先进光学元件微纳制造与精密检测技术作者:郭隐彪 开 本:16开 书号ISBN:9787118096132 定价:108.0 出版时间:2014-11-01 出版社:国防工业出版社 |
参考文献
第5章 先进光学元件精密检测技术
5.1 基于坐标测量的非球面元件检测技术
5.1.1 摆臂式轮廓检测法
5.1.2 长行程轮廓检测法
5.1.3 五棱镜轮廓检测法
5.2 基于波面干涉测量的非球面检测技术
5.2.1 零位干涉检测技术
5.2.2 非零位干涉检测技术
5.3 光学非球面精密检测平台
5.3.1 小型光学非球面精密检测平台
5.3.2 大型光朝e球面精密检测平台
参考文献
第6章 先进光学元件精密检测中的数据处理技术
6.1 先进光学元件检测轨迹规划
6.1.1 基于坐标测量的轨迹规划
6.1.2 基于子孔径干涉测量的轨迹规划
6.2 大口径光学元件检测中的数据处理技术
6.2.1 分段轮廓测量的数据处理技术
6.2.2 子孔径拼接的数据处理技术
6.3 光学元件在线检测系统数据处理技术研究
6.3.1 数据处理系统总体设计
6.3.2 数据预处理
6.3.3 误差补偿及结果
参考文献
第7章 先进光学元件制造加工环境监控技术
7.1 超精密加工环境监控技术概述
7.1.1 加工环境监控与诊断技术进展
7.1.2 嵌入式无线监控和诊断技术进展
7.2 超精密加工环境无线监控系统原理
7.2.1 加工环境无线监控系统构成
7.2.2 加工环境无线监控对象
7.2.3 加工环境无线监控系统网络
7.3 加工环境无线监控系统技术体系
7.3.1 系统硬件组成
7.3.2 系统软件组成
7.4 加工环境无线监控系统监控实例
参考文献
第8章 光学元件制造的亚表面损伤检测与控制
8.1 亚表面损伤概述
8.1.1 表面质量与完整性的研究内容
8.1.2 亚表面损伤的表现形式
8.1.3 亚表面损伤对元件光学性能的影响
8.2 亚表面损伤的形成机理
8.2.1 亚表面裂纹的形成机理
8.2.2 亚表面层残余应力的形成机理
8.2.3 亚表面层材料组织变化机理
8.3 亚表面损伤的检测与评价
8.3.1 损伤性检测技术
8.3.2 无损检测技术
8.3.3 亚表面损伤的评价
8.3.4 亚表面损伤的预测
8.4 光学元件制造的亚表面损伤控制
8.4.1 脆性材料的延展性去除加工技术
8.4.2 脆性材料的半延展性去除加工技术
参考文献
工业技术 机械仪表工业
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