6.1.3 大气压放电等离子体
6.1.4 国内低温等离子体科学研究
6.2 阴极真空弧薄膜沉积与注入
6.2.1 薄膜沉积技术研究历史及现状
6.2.2 阴极真空弧薄膜沉积技术
6.2.3 阴极弧技术的应用
6.3 高能量密度等离子体薄膜制备与材料表面改性
6.3.1 脉冲高能量密度等离子体的原理及特点
6.3.2 利用脉冲高能量密度等离子体制备硬质薄膜
6.3.3 脉冲高能量密度等离子体材料表面改性
6.3.4 phedp制备三元氮化物薄膜
6.4 等离子体电解氧化法制备陶瓷层
6.4.1 前期实验
6.4.2 管状铝质材料的等离子体电解氧化特性研究
6.4.3 钢铁管件的内壁陶瓷化研究
6.5 大气压放电等离子体材料表面改性
6.5.1 大气压等离子体的发展
6.5.2 大气压dbd等离子体制备纳米生物探针
6.5.3 总结
参考文献
7 多孔硅制备技术
7.1 多孔硅的形成机理和制备方法
7.1.1 多孔硅的形成机理
7.1.2 多孔硅的制备方法
7.1.3 多孔硅的后处理
7.2 多孔硅的微观结构及其化学组成
7.2.1 多孔硅的微观结构
7.2.2 多孔硅的化学组成
7.3 多孔硅的发光特性
7.3.1 多孔硅的光致发光特性
7.3.2 多孔硅的光致发光模型
7.3.3 多孔硅的电致发光特性
7.4 多孔硅微腔
7.5 多孔硅的应用研究和发展前景
参考文献
8 催化裂解技术与碳纳米管合成
8.1 碳纳米管的合成
8.1.1 单壁碳纳米管的合成
8.1.2 双壁碳纳米管的合成
8.1.3 定向碳纳米管的合成
8.2 碳纳米管的后处理工艺
8.3 碳纳米管的基本性能
8.3.1 电学性能
8.3.2 光学性能
8.3.3 力学性能
8.3.4 热学性能
8.4 碳纳米管的潜在应用
8.4.1 电子器件
8.4.2 场发射显示器
8.4.3 传感器
8.4.4 复合材料
8.4.5 能源领域
参考文献
9 特种功能薄膜制备技术
9.1 硬质膜的制备技术及其应用
9.1.1 概述
9.1.2 硬质膜性能表征
9.1.3 陶瓷膜和装饰膜
9.2 耐磨润滑膜的制备技术及其应用
9.2.1 类金刚石膜（dlc）
9.2.2 mos2和ws2薄膜
9.3 透明导电薄膜的制备技术及其应用
9.3.1 透明导电薄膜的制备与检测
9.3.2 透明导电薄膜的应用
9.3.3 透明导电薄膜的发展
9.4 薄膜技术在现代工业领域的展望
9.4.1 硬质膜发展趋势
9.4.2 膜层制备与表征技术的发展
参考文献

现代薄膜技术 节选

《现代薄膜技术》是清华大学、中科院物理所、安徽大学、北京机械工业自动化所、曲阜师范大学等单位的相关课题组多年研究成果的总结，系统介绍了微纳米纤维膜制造一电纺丝技术、离子束薄膜制备技术、LB薄膜技术、铁电与压电薄膜技术、自组装技术与仿生材料、等离子体薄膜制备技术、多孔硅制备技术、催化裂解技术与碳纳米管合成，以及功能薄膜制备技术。另外，还介绍了这些薄膜技术在高科技和工业领域的应用。
《现代薄膜技术》可供从事薄膜物理、电子材料、高分子、生物医学材料、化学化工、仿生材料、碳纳米管、功能陶瓷、离子束和等离子体等研究的科技人员，以及高等院校相关专业的师生参考。

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